Fel y gwyddom oll, y dulliau a ddefnyddir yn gyffredin mewn cotio gwactod yw trydarthiad gwactod a sbuttering ïon.Beth yw'r gwahaniaeth rhwng cotio trydarthiad a gorchudd sputtering Mae llawerpobl gennych gwestiynau o'r fath.Gadewch i ni rannu gyda chi y gwahaniaeth rhwng cotio trydarthiad a gorchudd sputtering
Ffilm trydarthiad gwactod yw gwresogi'r data i fod yn drydarthiad i dymheredd sefydlog trwy wresogi gwrthiant neu belydr electron a chregyn laser mewn amgylchedd â gradd gwactod o ddim llai na 10-2Pa, fel bod egni dirgryniad thermol moleciwlau neu atomau yn y data yn fwy na'r egni rhwymol yr wyneb, fel bod llawer o moleciwlau neu atomau trydarthiad neu gynyddu, ac yn uniongyrchol adneuo iddynt ar y swbstrad i ffurfio ffilm.Mae cotio sputtering ïon yn defnyddio symudiad remonstrance uchel ïonau positif a gynhyrchir gan ollyngiad nwy o dan effaith maes trydan i beledu'r targed fel y catod, fel bod yr atomau neu'r moleciwlau yn y targed yn dianc ac yn adneuo ar wyneb y darn gwaith platiog i ffurfio y ffilm ofynnol.
Y dull a ddefnyddir amlaf o cotio trydarthiad gwactod yw dull gwresogi gwrthiant.Ei fanteision yw strwythur syml ffynhonnell wresogi, gweithrediad cost isel a chyfleus.Ei anfanteision yw nad yw'n addas ar gyfer metelau anhydrin a chyfryngau gwrthsefyll tymheredd uchel.Gall gwresogi trawst electron a gwresogi laser oresgyn anfanteision gwresogi gwrthiant.Mewn gwresogi trawst electron, defnyddir y trawst electron ffocws i gynhesu'r data wedi'i syllu'n uniongyrchol, ac mae egni cinetig y trawst electron yn dod yn ynni gwres i wneud y trydarthiad data.Mae gwresogi laser yn defnyddio laser pŵer uchel fel ffynhonnell wresogi, ond oherwydd cost uchel laser pŵer uchel, dim ond mewn nifer fach o labordai ymchwil y gellir ei ddefnyddio.
Mae sgil chwistrellu yn wahanol i sgil trydarthiad gwactod.Mae sputtering yn cyfeirio at y ffenomen y mae gronynnau wedi'u gwefru yn peledu'n ôl i wyneb (targed) y corff, fel bod atomau solet neu foleciwlau yn cael eu hallyrru o'r wyneb.Mae'r rhan fwyaf o'r gronynnau a allyrrir yn atomig, a elwir yn aml yn atomau sbuttered.Gall gronynnau sbuttered a ddefnyddir ar gyfer sielio targedau fod yn electronau, ïonau neu ronynnau niwtral.Oherwydd bod ïonau'n hawdd cael yr egni cinetig gofynnol o dan faes trydan, mae ïonau'n cael eu dewis yn bennaf fel gronynnau cregyn.
Mae'r broses sputtering yn seiliedig ar ollyngiad glow, hynny yw, mae'r ïonau sputtering yn dod o ollwng nwy.Mae gan wahanol sgiliau sputtering wahanol ddulliau gollwng glow.Mae sputtering deuod DC yn defnyddio rhyddhau glow DC;Triode sputtering yn rhyddhau glow a gefnogir gan catod poeth;Mae RF sputtering yn defnyddio rhyddhau glow RF;Mae sputtering Magnetron yn ollyngiad glow a reolir gan faes magnetig annular.
O'i gymharu â gorchudd trydarthiad gwactod, mae gan cotio sputtering lawer o fanteision.Os gellir sputtered unrhyw sylwedd, yn enwedig elfennau a chyfansoddion gyda ymdoddbwynt uchel a gwasgedd anwedd isel;Mae'r adlyniad rhwng ffilm sputtered a swbstrad yn dda;Dwysedd ffilm uchel;Gellir rheoli trwch y ffilm ac mae'r ailadroddadwyedd yn dda.Yr anfantais yw bod yr offer yn gymhleth ac yn gofyn am ddyfeisiau foltedd uchel.
Yn ogystal, mae'r cyfuniad o ddull trydarthiad a dull sputtering yn blatio ïon.Manteision y dull hwn yw adlyniad cryf rhwng y ffilm a'r swbstrad, cyfradd dyddodiad uchel a dwysedd uchel y ffilm.
Amser postio: Mai-09-2022