Gorchudd drych adlewyrchol iawn ar gyfer telesgopau mawr, wedi'i gynhyrchu gan sputtering pellter hir.

Bydd y genhedlaeth nesaf o delesgopau mawr angen drychau sy'n gadarn, yn adlewyrchol iawn, yn unffurf ac sydd â diamedr sylfaen sy'n fwy nag 8 metr.
Yn draddodiadol, mae haenau anweddol yn gofyn am sylw ffynhonnell eang a chyfraddau dyddodiad uchel i anweddu haenau adlewyrchol yn effeithiol.Yn ogystal, rhaid cymryd gofal arbennig i atal y siamffrau rhag anweddu, a all arwain at dwf strwythurau colofnol a llai o adlewyrchedd.
Mae cotio sputter yn dechnoleg unigryw sy'n darparu atebion addas ar gyfer haenau adlewyrchol sengl ac aml-haen ar swbstradau mawr.Mae sputtering pellter hir yn ddull prosesu lled-ddargludyddion a ddefnyddir yn eang ac mae'n darparu dwysedd cotio uwch ac adlyniad o'i gymharu â haenau sputtered.
Mae'r dechnoleg hon yn creu gorchudd unffurf ar hyd crymedd cyfan y drych ac mae angen ychydig iawn o guddio.Fodd bynnag, nid yw sbuttering alwminiwm ystod hir wedi dod o hyd i ddefnydd effeithiol eto mewn telesgopau mawr.Mae atomization taflu byr yn dechnoleg arall sy'n gofyn am alluoedd offer uwch a masgiau cymhleth i wneud iawn am crymedd drych.
Mae'r papur hwn yn dangos cyfres o arbrofion i werthuso effaith paramedrau chwistrellu ystod hir ar adlewyrchedd drych o'i gymharu â drych alwminiwm wyneb blaen confensiynol.
Mae canlyniadau arbrofol yn dangos bod rheoli anwedd dŵr yn ffactor mawr wrth greu haenau drych alwminiwm gwydn ac adlewyrchol iawn, a hefyd yn dangos y gall chwistrellu pellter hir o dan amodau pwysedd dŵr isel fod yn effeithiol iawn.
RSM （Cyfoethog Deunyddiau Arbennig Co, LTD.） cyflenwi mathau o dargedau sputtering a rhodenni aloi