Ynglŷn â'r cynnyrch targed, erbyn hyn mae'r farchnad ymgeisio yn fwy a mwy eang, ond mae yna rai defnyddwyr o hyd nad yw'n deall iawn am y defnydd o'r targed, gadewch i arbenigwyr o Adran dechnoleg RSM wneud cyflwyniad manwl amdano,
1. Microelectroneg
Ym mhob diwydiant cymhwyso, mae gan y diwydiant lled-ddargludyddion y gofynion mwyaf heriol ar gyfer ansawdd ffilm sputtering targed.Mae wafferi silicon 12 modfedd (300 epistaxis) bellach wedi'u cynhyrchu.Mae lled y rhyng-gysylltiad yn lleihau.Mae gweithgynhyrchwyr wafferi silicon yn gofyn am faint mawr, purdeb uchel, gwahaniad isel a grawn mân y targed, sy'n gofyn am well microstrwythur y targed gweithgynhyrchu.
2, arddangos
Mae arddangosiad panel gwastad (FPD) wedi effeithio'n fawr ar fonitor cyfrifiadur a marchnad deledu tiwb pelydr cathod (CRT) dros y blynyddoedd, a bydd hefyd yn gyrru'r dechnoleg a galw'r farchnad am ddeunyddiau targed ITO.Mae dau fath o darged iTO.Un yw defnyddio cyflwr nanomedr o indium ocsid a phowdr tun ocsid ar ôl sintering, a'r llall yw defnyddio targed aloi tun indium.
3. storio
O ran technoleg storio, mae datblygu disgiau caled dwysedd uchel a chapasiti mawr yn gofyn am nifer fawr o ddeunyddiau ffilm amharodrwydd enfawr.Mae ffilm gyfansawdd amlhaenog CoF ~ Cu yn strwythur a ddefnyddir yn eang o ffilm amharodrwydd enfawr.Mae'r deunydd targed aloi TbFeCo sydd ei angen ar gyfer disg magnetig yn dal i gael ei ddatblygu ymhellach.Mae gan y disg magnetig a weithgynhyrchir gyda TbFeCo nodweddion cynhwysedd storio mawr, bywyd gwasanaeth hir a dileu di-gyswllt dro ar ôl tro.
Datblygu deunydd targed:
Mae gwahanol fathau o ddeunyddiau ffilm tenau sputtering wedi'u defnyddio'n helaeth mewn cylchedau integredig lled-ddargludyddion (VLSI), disgiau optegol, arddangosfeydd planar a haenau arwyneb y darn gwaith.Ers Y 1990au, mae datblygiad cydamserol deunydd targed sputtering a thechnoleg sputtering wedi diwallu anghenion datblygu amrywiol gydrannau electronig newydd yn fawr.
Amser postio: Awst-08-2022