Mae cotio gwactod yn cyfeirio at wresogi ac anweddu'r ffynhonnell anweddu mewn gwactod neu sputtering â peledu ïon carlam, a'i adneuo ar wyneb y swbstrad i ffurfio ffilm un haen neu aml-haen.Beth yw egwyddor cotio gwactod?Nesaf, bydd golygydd RSM yn ei gyflwyno i ni.
1. cotio anweddiad gwactod
Mae cotio anweddiad yn ei gwneud yn ofynnol i'r pellter rhwng y moleciwlau anwedd neu'r atomau o'r ffynhonnell anweddu a'r swbstrad i'w gorchuddio fod yn llai na llwybr rhydd cyfartalog y moleciwlau nwy gweddilliol yn yr ystafell cotio, er mwyn sicrhau bod moleciwlau anwedd y gall anweddiad gyrraedd wyneb y swbstrad heb wrthdrawiad.Sicrhewch fod y ffilm yn bur ac yn gadarn, ac ni fydd yr anweddiad yn ocsideiddio.
2. gwactod sputtering cotio
Mewn gwactod, pan fydd yr ïonau carlam yn gwrthdaro â'r solet, ar y naill law, mae'r grisial yn cael ei niweidio, ar y llaw arall, maent yn gwrthdaro â'r atomau sy'n ffurfio'r grisial, ac yn olaf yr atomau neu'r moleciwlau ar wyneb y solet sputter tuag allan.Mae'r deunydd sputtered wedi'i blatio ar y swbstrad i ffurfio ffilm denau, a elwir yn blatio sputtered gwactod.Mae yna lawer o ddulliau sputtering, ymhlith a sputtering deuod yw'r un cynharaf.Yn ôl gwahanol dargedau catod, gellir ei rannu'n gyfredol uniongyrchol (DC) ac amledd uchel (RF).Gelwir nifer yr atomau sy'n cael eu sputtered trwy effeithio ar yr arwyneb targed ag ïon yn gyfradd sputtering.Gyda chyfradd sputtering uchel, mae'r cyflymder ffurfio ffilm yn gyflym.Mae'r gyfradd sputtering yn gysylltiedig â'r egni a'r math o ïonau a'r math o ddeunydd targed.A siarad yn gyffredinol, mae'r gyfradd sputtering yn cynyddu gyda chynnydd ynni ïon dynol, ac mae cyfradd sputtering metelau gwerthfawr yn uwch.
Amser post: Gorff-14-2022