Targed sputtering silicon

Gofynnodd rhai cwsmeriaid am dargedau sputtering silicon.Nawr, bydd cydweithwyr o Adran Dechnoleg RSM yn dadansoddi targedau sputtering silicon i chi.

Gwneir targed sputtering silicon gan sputtering metel o ingot silicon.Gellir cynhyrchu'r targed trwy amrywiol brosesau a dulliau, gan gynnwys electroplatio, sputtering a dyddodiad anwedd.Mae'r ymgorfforiadau a ffefrir yn darparu prosesau glanhau ac ysgythru ychwanegol i gyflawni'r amodau arwyneb dymunol.Mae'r targed a gynhyrchir yn adlewyrchol iawn, gyda garwedd o lai na 500 o angstroms a chyflymder llosgi cymharol gyflym.Mae gan y ffilm a baratowyd gan y targed silicon nifer gronynnau isel.

Defnyddir targed sputtering silicon i adneuo ffilmiau tenau ar ddeunyddiau sy'n seiliedig ar silicon.Fe'u defnyddir yn gyffredin mewn cymwysiadau arddangos, lled-ddargludyddion, optegol, cyfathrebu optegol a gorchuddio gwydr.Maent hefyd yn addas ar gyfer ysgythru cydrannau uwch-dechnoleg.Gellir defnyddio targedau sputtering silicon math N at wahanol ddibenion.Mae'n berthnasol i lawer o feysydd, gan gynnwys electroneg, celloedd solar, lled-ddargludyddion ac arddangosfeydd.

Mae'r targed sputtering silicon yn affeithiwr sputtering a ddefnyddir ar gyfer dyddodi deunyddiau ar yr wyneb.Fel arfer, mae'n cynnwys atomau silicon.Mae'r broses sputtering yn gofyn am union faint o ddeunydd, a all fod yn her fawr.Defnyddio offer sputtering delfrydol yw'r unig ffordd i wneud cydrannau sy'n seiliedig ar silicon.Mae'n werth nodi na ddefnyddir y targed sputtering silicon yn y broses sputtering.