Nawr mae mwy a mwy o ddefnyddwyr yn deall y mathau o dargedau aei gymwysiadau, ond efallai nad yw ei isrannu yn glir iawn.Nawr gadewch i nipeiriannydd RSM rhannu gyda chipeth anwytho o dargedau sputtering magnetron.
Targed sputtering: targed cotio sputtering metel, targed cotio sputtering aloi, targed cotio sputtering ceramig, targed sputtering ceramig boride, targed sputtering ceramig carbide, targed sputtering ceramig fflworid, targed sputtering ceramig nitrid, targed ceramig ocsid, targed sputtering ceramig selenid, sputtering ceramig silladdiad targed, targed sputtering ceramig sulfide, targed sputtering ceramig telluride, targedau ceramig eraill, targed cromiwm doped silicon ocsid ceramig (CR SiO), targed indium phosphide (INP), targed arsenide plwm (pbas), targed indium arsenide (InAs).
Yn gyffredinol, rhennir sputtering Magnetron yn ddau fath: sputtering DC a sputtering RF.Mae egwyddor offer sputtering DC yn syml, ac mae ei gyfradd hefyd yn gyflym wrth sputtering metel.Defnyddir RF sputtering yn eang.Yn ogystal â sputtering data dargludol, gall hefyd sputter data nad yw'n dargludol.Gellir defnyddio'r targed sputtering hefyd ar gyfer sputtering adweithiol i baratoi data cyfansawdd megis ocsidau, nitridau a carbidau.Os bydd yr amledd RF yn cynyddu, bydd yn dod yn sbuttering plasma microdon.Ar hyn o bryd, defnyddir sbuttering plasma microdon cyseiniant electron cyclotron (ECR) yn gyffredin.
Amser postio: Mai-26-2022