V Targed Sputtering Purdeb Uchel Tenau Ffilm Pvd Gorchuddio Custom Made
Fanadiwm
Disgrifiad Targed Sputtering Vanadium
Mae fanadiwm yn fetel caled, hydwyth gyda golwg arian-llwyd.Mae'n galetach na'r rhan fwyaf o fetelau ac mae ganddo ymwrthedd cyrydiad da yn erbyn alcalïau ac asidau.Ei bwynt toddi yw 1890 ℃, a'r pwynt berwi yw 3380 ℃.Ei rif atomig yw 23, a phwysau atomig yw 50.9414.Mae ganddo strwythur ciwbig wyneb-ganolog a chyflyrau ocsidiad yn ei gyfansoddion o +5, +4, +3 a +2.Mae ganddo bwynt toddi uchel, hydwythedd, caledwch, a gwrthiant cyrydiad.
Defnyddir fanadiwm yn helaeth mewn nifer o ddiwydiannau a chymwysiadau, megis peiriannau jet, fframiau aer cyflym, adweithyddion niwclear ac aloion dur.
Mae targed sputtering Vanadium purdeb uchel yn ddeunydd hanfodol ar gyfer celloedd solar a haenau lens optegol.
Dadansoddiad Cemegol
| Purdeb | 99.7 | 99.9 | 99.95 | 99.99 |
| Fe | ≤0.1 | ≤0.05 | ≤0.02 | ≤0.01 |
| Al | ≤0.2 | ≤0.05 | ≤0.03 | ≤0.01 |
| Si | ≤0.15 | ≤0.1 | ≤0.05 | ≤0.01 |
| C | ≤0.03 | ≤0.02 | ≤0.01 | ≤0.01 |
| N | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 |
| O | ≤0.05 | ≤0.05 | ≤0.05 | ≤0.03 |
| Amhuredd yn gyfan gwbl | ≤0.3 | ≤0.1 | ≤0.05 | ≤0.01 |
Pecynnu Targed Vanadium Sputtering
Mae ein targed Sputter Vanadium wedi'i dagio'n glir a'i labelu'n allanol i sicrhau adnabyddiaeth effeithlon a rheoli ansawdd.Cymerir gofal mawr i osgoi unrhyw ddifrod a allai gael ei achosi wrth storio neu gludo.
Cael Cyswllt
Mae targedau sputtering vanadium RSM yn cynnig purdeb a chysondeb gwych.Maent ar gael mewn amrywiaeth o ffurfiau, purdeb, meintiau a phrisiau.Rydym yn arbenigo mewn deunyddiau cotio ffilm tenau purdeb uchel gydag eiddo rhagorol, yn ogystal â'r dwysedd uchaf posibl a'r maint grawn cyfartalog lleiaf posibl, ar gyfer cotio marw, addurno, rhannau modurol, gwydr E isel, cylchedau integredig lled-ddargludyddion, gwrthyddion ffilm tenau, arddangosfeydd graffig , awyrofod, recordio magnetig, sgriniau cyffwrdd, celloedd solar ffilm denau a chymwysiadau dyddodiad anwedd corfforol (PVD) eraill.Anfonwch ymholiad atom am brisiau cyfredol ar dargedau sputtering a deunyddiau dyddodi eraill nad ydynt wedi'u rhestru.
